Teknologi CKD tidak hanya memiliki stok mesin baru, tetapi juga segera tersedia.
Kami juga memiliki bisnis persewaan terperinci, siap melayani kebutuhan produksi spesifik Anda sekaligus menurunkan investasi awal Anda secara signifikan. Hubungi kami untuk lebih jelasnya.
CKD memiliki tim insinyur profesional, siap memberikan layanan turn key.
Untuk jual beli mesin bekas, silahkan menghubungi kami melalui Whatspp atau email.
------------------------------------------------------------------------
Seri MYS10 adalah sistem pemrosesan plasma in-line yang sepenuhnya otomatis dan dikembangkan untuk aplikasi di sektor-sektor seperti semikonduktor, elektronik, SMT, optoelektronik, dan teknologi medis.
• Sistem plasma argon bertekanan atmosfer
• Pemrosesan plasma batch in-line selebar 100mm; menawarkan efisiensi 2–5 kali lebih tinggi dan biaya pengoperasian 30% lebih rendah dibandingkan metode tradisional
• 100% plasma netral; aman dan lembut pada komponen elektronik sensitif—tidak menghasilkan bombardir plasma, listrik statis, percikan api, busur api, debu, panas tinggi, riak permukaan, atau radiasi UV, sehingga memastikan tidak ada kerusakan pada produk
• Platform plasma ringkas yang menawarkan fleksibilitas dan kompatibilitas tinggi
• Proses kimia serbaguna: proses O2 untuk menghilangkan kontaminan organik; Proses H2 untuk menghilangkan oksida logam dan mengaktifkan permukaan produk
• Tidak ada kontaminan partikulat atau cairan yang dihasilkan
| Spesifikasi Dasar | SAYA10 |
| Persyaratan Daya | AC 200–240V, 4,4kW, 20A, 50/60Hz |
| Persyaratan Tekanan Udara | 90 psi (6 bar) |
| Ukuran | 790x1200x1880mm |
| Berat | 800kg |
| Standar Sertifikasi | CE, SEMI S2 |
| Akurasi Posisi | XY: ±30 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| Pengulangan Sumbu XYZ | XY: ±15 µm @ 3σ; Z: ±5 m @ 3σ |
| Kecepatan Maksimum | 1000 mm/s (XY) |
| Percepatan | 1.0g |
| Sistem Penggerak | servo AC |
| Spesifikasi Platform Kerja | |
| Tipe Lintasan | Sabuk |
| Kapasitas beban rel | 3kg |
| Kisaran ketebalan substrat (tanpa pembawa) | 0,5–6 mm |
| Perjalanan sumbu Z | 100mm |
| Maks. tinggi komponen (sisi atas) | 26mm |
| Maks. tinggi komponen (sisi bawah) | 23mm |
| Protokol komunikasi | SMEMA |
| Rentang kerja | |
| Area perawatan plasma (L×D) | 350–475 mm |
| Sudut Kontak Air (WCA) setelah perawatan plasma | WCA < 10° (Wafer silikon) WCA < 20° (Non-logam) |
| Metode pengobatan plasma | Proses O2 untuk menghilangkan kontaminan organik Proses H2 untuk menghilangkan oksida logam |
| Persyaratan sistem plasma | |
| Kekuatan RF | 600W pada 27,12MHz |
| Gas Plasma Utama | Argon |
| Proses Gas | O2, N2, atau H2 |
| Kisaran Tekanan Pasokan Gas | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Alamat
Lantai 5, Gedung 2, No. 182, Jalan Chang'an Xi'an, Kota Chang'an, Dongguan, Provinsi Guangdong, Cina.
Telp
Surel
