Pelapis Film ASYMTEK Pilih Lapisan SC-280

Ringkasan

Pelapis film Select Coat® SC-280 (tersedia dalam model SC-280N non-resirkulasi dan model SC-280C yang bersirkulasi) memberikan lapisan konformal selektif dan presisi dalam lingkungan produksi otomatis. SC-280 menghasilkan lapisan film yang seragam dan terkontrol dengan semprotan berlebih yang minimal—sehingga menghilangkan kebutuhan untuk menutupi dan mengurangi limbah. Dirancang untuk material dengan viskositas di bawah 100 centipoise, aplikator ini memastikan penggunaan material yang efisien dan throughput yang tinggi, mendukung material berbasis pelarut dan 100% padatan.

Presisi dan Produktivitas dalam Pelapisan Film

Lapisan film non-atomisasi berkecepatan tinggi memberikan cakupan yang konsisten dengan lebar yang bervariasi, definisi tepi yang presisi, dan pemanfaatan material yang sangat baik.

Keuntungan Utama

● Efisiensi transfer mendekati 100%, dengan pemanfaatan material meningkat sebesar 30–50%.

● Aplikasi yang tepat dan selektif dengan definisi tepi yang sangat baik.

● Kecepatan pelapisan tinggi (hingga 750 mm/s atau 30 in/s) untuk hasil yang cepat.

● Mengurangi penyemprotan berlebihan, persyaratan masking, dan pengerjaan ulang dibandingkan dengan metode pelapisan yang diatomisasi.

● Jalur cairan baja tahan karat, kompatibel dengan berbagai macam bahan kimia pelapis konformal

● Aksesori kemiringan opsional meningkatkan akses ke ruang sempit atau permukaan miring

Aplikasi Ideal

● Pelapisan selektif otomatis pada area tertentu pada PCB

● Aplikasi dimana masking mahal atau tidak praktis

● Lingkungan produksi bervolume sedang hingga tinggi

● Bahan pelapis konformal dengan viskositas rendah (viskositas serupa atau sedikit lebih tinggi dari air)

Keuntungan dalam Biaya Kepemilikan, Hasil, dan Kinerja Startup

● Mengurangi total biaya kepemilikan dengan meminimalkan masking, penyemprotan berlebihan, dan limbah material.

● Meningkatkan hasil first-pass dengan menerapkan film seragam dengan definisi tepi yang tajam dan kepatuhan yang ketat pada zona penahan.

● Mengurangi pengerjaan ulang dan sisa karena penerapan pelapisan yang seragam dan dapat diprediksi.

● Meningkatkan throughput melalui deposisi film berkecepatan tinggi.

● Meningkatkan kinerja dan keandalan startup melalui desain non-atomisasi dan kemampuan kontrol proses yang kuat.